CMP フィルタリング
「ストラテジスト・コンペティション」のCMP工程では、シリコンウエハーなどの基板材料の平坦化処理において、粒子径の大きな製品をろ過し、研削に有効な加工粒子を保持し、最適な流体力学的状態を実現する必要があります。Hangzhou Dali のフィルタ エレメントは、優れた粒子保持性能を備え、顧客の生産費用対効果を向上させます。
リソグラフィプロセス
加工線幅の精密化要求により、製品の洗浄管理はますます厳しくなっています。さまざまな汚染物質と金属イオンの沈殿要件により、フィルター要素の製造にはより高い要件が課せられます。Dali ろ過は、プロセスのアップグレードのための高清浄度の製品を提供し、製品の品質を保証します。
空調システム
プラント システムは、クリーンな薬品、超純水、クリーンなプロセス ガスを FAB 全体に安定して供給する必要があります。これにより、各セクションで使用されるフィルター要素の安定性と一貫性に対する高い要件が提示されます。杭州のような大流量フィルター エレメント、セキュリティ フィルター エレメント、高精度折りたたみフィルター エレメント、過フッ素化フィルター エレメント シリーズは、工場管理システムに安定したろ過サービスを提供します。
プロセス技術
フラットパネルディスプレイの製造工程において、フィルター製品の性能は完成品の品質と歩留まりに直接影響します。特に高発電ラインでは、フィルター製品の問題で大量のスクラップやロスが発生します。Hangzhou Dali filter は、各プロセスの要件に応じて安定した信頼性の高い製品を顧客に提供し、さまざまなプロセスの問題を分析して解決し、製品を最適化し、コストを削減します。
電子化学品
クリーンな電子化学薬品は、半導体製造の主要材料として、半導体製造プロセスで重要な役割を果たします。さまざまな特性を持つさまざまな電子化学薬品には、フィルター製品に対するさまざまな要件があり、フィルター製品の清浄度と低沈殿物に対する厳しい要件があります。大理会社は、高度な設備と技術を使用して、フィルター製品の清浄度を厳密に管理し、降水量と金属イオンが少ない製品を製造しています。
データストレージ
デジタル情報時代において、記録媒体は紙媒体から、ハードディスク、フラッシュメモリ、USBフラッシュディスク、SDカードなどのさまざまな新しいキャリア記録媒体へと発展しました。ポータブルで大容量のデータストレージ製品を製造するために、装置とプロセスは、各プロセスの汚染制御とろ過浄化技術に依存します。Hangzhou Dali は、顧客のパーソナライズされたプロセスとニーズを満たすために、さまざまな高度なろ過製品と関連技術を開発および製造しています。