Im CMP-Prozess sollten Produkte mit einem großen Partikelgrößenbereich gefiltert werden, wirksame Partikel sollten zum Schleifen zurückbehalten werden und große Partikel, die die Oberfläche verkratzen könnten, sollten entfernt werden.Im Hinblick auf die strikte Partikelabfangleistung des Filterkerns sollten so viele eflektive Partikel wie möglich freigesetzt werden, um große Partikel effizient abzufangen.
